感應加熱烹調器制造技術

技術編號:23090028 閱讀:35 留言:0更新日期:2020-01-11 02:55
本發明專利技術的感應加熱烹調器具備:頂板,其形成有表示被加熱物的載置位置的加熱口;以及第1線圈及第2線圈,其由卷繞成環狀的繞組形成,配置在頂板的加熱口的下方,第2線圈具有第1繞組部和第2繞組部,所述第1繞組部在第1線圈的周向上延伸,所述第2繞組部與第1繞組部隔開間隔地配置,并在第1線圈的周向上延伸,第1繞組部與頂板的距離和第2繞組部與頂板的距離不同。

Induction cooker

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】感應加熱烹調器
本專利技術涉及具備多個線圈的感應加熱烹調器。
技術介紹
以往的感應加熱烹調器具備中央線圈、與中央線圈的周邊鄰接配置的多個周邊線圈、以及向中央線圈和周邊線圈供給高頻電流的高頻電源。高頻電源在中央線圈及周邊線圈分別相互鄰接的區域中,供給在相同方向上流動的高頻電流(例如,參照專利文獻1)?,F有技術文獻專利文獻專利文獻1:國際公開第2010/101135號
技術實現思路
專利技術所要解決的課題在以往的感應加熱烹調器中,在周邊線圈的與中央線圈鄰接的內側部分流動的電流的方向與在周邊線圈的不與中央線圈鄰接的外側部分流動的電流的方向相反。因此,存在由在周邊線圈的內側部分流動的電流產生的磁場的一部分與由在周邊線圈的外側部分流動的電流產生的磁場的一部分相互抵消的問題。本專利技術是為了解決上述那樣的課題而完成的,得到一種能夠抑制對被加熱物進行感應加熱時的磁場的相互抵消的感應加熱烹調器。用于解決課題的手段本專利技術的感應加熱烹調器具備:頂板,其形成有表示被加熱物的載置位置的加熱口;以及第1線圈及第2線圈,其由卷繞成環狀的繞組形成,配置在所述頂板的所述加熱口的下方,所述第2線圈具有第1繞組部和第2繞組部,所述第1繞組部在所述第1線圈的周向上延伸,所述第2繞組部與所述第1繞組部隔開間隔地配置,并在所述第1線圈的周向上延伸,所述第1繞組部與所述頂板的距離和所述第2繞組部與所述頂板的距離不同。專利技術的效果本專利技術的感應加熱烹調器的第2線圈的第1繞組部與頂板的距離和第2線圈的第2繞組部與頂板的距離不同。因此,能夠減少由在第1繞組部中流動的電流產生的磁場與由在第2繞組部中流動的電流產生的磁場的相互抵消。附圖說明圖1是表示實施方式1的感應加熱烹調器的分解立體圖。圖2是表示實施方式1的感應加熱烹調器的第1感應加熱機構的俯視圖。圖3是表示實施方式1的感應加熱烹調器的結構的框圖。圖4是表示實施方式1的感應加熱烹調器的驅動電路的圖。圖5是表示實施方式1的感應加熱烹調器的驅動電路的圖。圖6是表示在實施方式1的感應加熱烹調器的各線圈中流動的電流方向的圖。圖7是圖6的主要部分放大圖。圖8是表示實施方式1的感應加熱烹調器的線圈的配置的剖視圖。圖9是表示實施方式2的感應加熱烹調器的線圈的配置的剖視圖。圖10是說明實施方式2的感應加熱烹調器的第1繞組部與第2繞組部的間隔的圖。圖11是表示實施方式2的感應加熱烹調器的線圈的配置的變形例1的剖視圖。圖12是表示實施方式2的感應加熱烹調器的線圈的配置的變形例2的剖視圖。圖13是表示實施方式3的感應加熱烹調器的線圈的配置的剖視圖。圖14是表示實施方式3的感應加熱烹調器的線圈的配置的變形例1的剖視圖。圖15是表示實施方式3的感應加熱烹調器的線圈的配置的變形例2的剖視圖。圖16是表示實施方式3的感應加熱烹調器的線圈的配置的變形例3的剖視圖。圖17是表示實施方式4的感應加熱烹調器的線圈的配置的剖視圖。圖18是表示實施方式4的感應加熱烹調器的線圈的配置的變形例1的剖視圖。圖19是表示實施方式4的感應加熱烹調器的線圈的配置的變形例2的剖視圖。圖20是表示實施方式4的感應加熱烹調器的線圈的配置的變形例3的剖視圖。圖21是表示實施方式5的感應加熱烹調器的線圈的配置的剖視圖。圖22是表示實施方式6的感應加熱烹調器的第1感應加熱機構的俯視圖。圖23是表示實施方式6的感應加熱烹調器的線圈的配置的剖視圖。圖24是表示實施方式7的感應加熱烹調器的線圈的配置的剖視圖。具體實施方式實施方式1圖1是表示實施方式1的感應加熱烹調器的分解立體圖。如圖1所示,在感應加熱烹調器100的上部具有載置鍋等被加熱物5的頂板4。在頂板4上,作為用于對被加熱物5進行感應加熱的加熱口,具備第1感應加熱口1及第2感應加熱口2。第1感應加熱口1及第2感應加熱口2在頂板4的近前側在橫向上并列設置。另外,本實施方式1的感應加熱烹調器100還具備第3感應加熱口3作為第3個加熱口。第3感應加熱口3設置在第1感應加熱口1及第2感應加熱口2的里側,且設置在頂板4的橫向的大致中央位置。在第1感應加熱口1、第2感應加熱口2及第3感應加熱口3各自的下方,設有對載置于加熱口的被加熱物5進行加熱的第1感應加熱機構11、第2感應加熱機構12及第3感應加熱機構13。各個加熱機構由線圈構成。頂板4整體由耐熱鋼化玻璃或結晶玻璃等透過紅外線的材料構成。另外,在頂板4上,與作為第1感應加熱機構11、第2感應加熱機構12及第3感應加熱機構13的加熱范圍的加熱口對應地,通過涂料的涂布或印刷等形成有表示鍋的大致載置位置的圓形的鍋位置標記。在頂板4的近前側,作為用于設定由第1感應加熱機構11、第2感應加熱機構12及第3感應加熱機構13對被加熱物5等進行加熱時的接通電力及烹飪菜單等的輸入裝置,設置有操作部40。此外,在本實施方式1中,按每個感應加熱線圈劃分操作部40,設為操作部40a、操作部40b及操作部40c。另外,在操作部40的附近,作為通知機構,設置有顯示部41,該顯示部41顯示各感應加熱線圈的動作狀態、來自操作部40的輸入及操作內容等。此外,在本實施方式1中,按每個感應加熱線圈劃分顯示部41,設為顯示部41a、顯示部41b及顯示部41c。此外,操作部40及顯示部41沒有特別限定,可以為如上述那樣按每個感應加熱機構設置的情況、以及設置為各感應加熱機構共用的情況等。在此,操作部40例如由按動開關及輕觸開關等機械開關、根據電極的靜電電容的變化來檢測輸入操作的觸摸開關等構成。另外,顯示部41例如由LCD(LiquidCrystalDevice)及LED等構成。此外,操作部40和顯示部41也可以為將它們一體地構成的操作顯示部43。操作顯示部43例如由在LCD的上表面配置有觸摸開關的觸摸面板等構成。在感應加熱烹調器100的內部設置有向第1感應加熱機構11、第2感應加熱機構12及第3感應加熱機構13的線圈供給高頻電力的驅動電路50、以及用于控制包括驅動電路50在內的整個感應加熱烹調器的動作的控制部45。通過驅動電路50將高頻電力供給至第1感應加熱機構11、第2感應加熱機構12及第3感應加熱機構13,從而從各感應加熱機構的線圈產生高頻磁場。此外,關于驅動電路50的詳細結構,在后面敘述。第1感應加熱機構11、第2感應加熱機構12及第3感應加熱機構13例如以如下方式構成。此外,第1感應加熱機構11、第2感應加熱機構12及第3感應加熱機構13為同樣的結構。因此,以下代表性地說明第1感應加熱機構11的結構。圖2是表示實施方式1的感應加熱烹調器的第1感應加熱機構的俯視圖。在圖2中,第1感應加熱機構11由配置在加熱口的中央的內周線圈11a和配置在內本文檔來自技高網...

【技術保護點】
1.一種感應加熱烹調器,其中,具備:/n頂板,其形成有表示被加熱物的載置位置的加熱口;以及/n第1線圈及第2線圈,其由卷繞成環狀的繞組形成,配置在所述頂板的所述加熱口的下方,/n所述第2線圈具有:/n第1繞組部,其在所述第1線圈的周向上延伸;以及/n第2繞組部,其與所述第1繞組部隔開間隔地配置,并在所述第1線圈的周向上延伸,/n所述第1繞組部與所述頂板的距離和所述第2繞組部與所述頂板的距離不同。/n

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】1.一種感應加熱烹調器,其中,具備:
頂板,其形成有表示被加熱物的載置位置的加熱口;以及
第1線圈及第2線圈,其由卷繞成環狀的繞組形成,配置在所述頂板的所述加熱口的下方,
所述第2線圈具有:
第1繞組部,其在所述第1線圈的周向上延伸;以及
第2繞組部,其與所述第1繞組部隔開間隔地配置,并在所述第1線圈的周向上延伸,
所述第1繞組部與所述頂板的距離和所述第2繞組部與所述頂板的距離不同。


2.根據權利要求1所述的感應加熱烹調器,其中,
所述第1線圈及所述第2線圈的所述第1繞組部配置在與所述頂板平行的平面即基準平面上,
所述第2線圈的所述第2繞組部配置在上部平面上,所述上部平面是與所述頂板平行、且與所述基準平面相比距所述頂板的距離短的平面。


3.根據權利要求1所述的感應加熱烹調器,其中,
所述第1線圈配置在與所述頂板平行的平面即基準平面上,
所述第2線圈配置在向上傾斜面上,所述向上傾斜面從所述第1線圈的外周側朝向所述加熱口的外周側向上方傾斜并與所述基準平面交叉。


4.根據權利要求1所述的感應加熱烹調器,其中,
所述第1線圈配置在與所述頂板平行的平面即基準平面上,
所述第2線圈的所述第1繞組部配置在向上傾斜面上,所述向上傾斜面是從所述第1線圈的外周側朝向所述加熱口的外周側向上方傾斜并與所述基準平面交叉的平面,
所述第2線圈的所述第2繞組部配置在上部平面上,所述上部平面是與所述頂板平行、且與所述基準平面相比距所述頂板的距離短的平面。


5.根據權利要求1所述的感應加熱烹調器,其中,
所述第1線圈及所述第2線圈的所述第1繞組部配置在與所述頂板平行的平面即基準平面上,
所述第2線圈的所述第2繞組部配置在向上傾斜面上,所述向上傾斜面是從所述第1線圈的外周側朝向所述加熱口的外周側向上方傾斜并與所述基準平面交叉的平面。


6.根據權利要求1所述的感應加熱烹調器,其中,
所述第1線圈及所述第2線圈的所述第1繞組部配置在與所述頂板平行的平面即基準平面上,
所述第2線圈的所述第2繞組部配置在下部平面上,所述下部平面是與所述頂板平行、且與所述基準平面相比距所述頂板的距離長的平面。


7.根據權利要求1所述的感應加熱烹調器,其中,
所述第1線圈配置在與所述頂板平行的平面即基準平面上,
所述第2線圈配置在向下傾斜面上,所述向下傾斜面從所述第1線圈的外周側朝向所述加熱口的外周側向下方傾斜并與所述基準平面交叉。


8.根據權利要求1所述的感應加熱烹調器,其中,
所述第1線圈配置在與所述頂板平行的平面即基準平面上,
所述第2線圈的所述第1繞組部配置在向下傾斜面上,所述向下傾斜面是從所述第1線圈的外周側朝向所述加熱口的外周側向下方傾斜并與所述基準平面交叉的平面,
所述第2線圈的所述第2繞組部配置在下部平面上,所述下部平面是與所述頂板平行、且與所述基準平面相比距所述頂板的距離長的平面。


9.根據權利要求1所述的感應加熱烹調器,其中,
所述第1線圈及所述第2線圈的所述第1繞組部配置在與所述頂板平行的平面即基準平面上,
所述第2線圈的所述第2繞組部配置在向下傾斜面上,所述向下傾斜面是從所述第1線圈的外周側朝向所述加熱口的外周側向下方傾斜并與所述基準平面交叉的平面。


10.根據權利要求1所述的感應加熱烹調器,其中,
所述第2線圈配置在俯視時所述第1繞組部的至少一部分與所述第1線圈重疊的位置。


11.根據權利要求10所述的感應加熱烹調器,其中,
所述第1線圈及所述第2線圈的所述第2繞組部配置在與所述頂板平行的平面即基準平面上,
所述第2線圈的所述第1繞組部配置在下部平面上,所述下部平面是與所述頂板平行、且與所述基準平面相比距所述頂板的距...

【專利技術屬性】
技術研發人員:菅郁朗,松田哲也,龜岡和裕,
申請(專利權)人:三菱電機株式會社,三菱電機家用電器株式會社,
類型:發明
國別省市:日本;JP

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